FUJI IX-150

FUJI IX 150 — высокочувствительная пленка с мелким зерном и высокой контрастностью.

Высокочувствительная пленка с мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса III подходит для проверки самых разных образцов с помощью источников рентгеновского и гамма-излучения с низким и высоким напряжением.
Она особенно полезна в том случае, если высокоактивный источник гамма-излучения недоступен, или при проверке очень толстых образцов. IX150 используется с прямым экспонированием или свинцовыми экранами.

FUJI IX-100

FUJI IX 100 обладает мелким зерном и высокой контрастностью.

Пленка с очень мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса II подходит для исследования легких металлов с помощью слабоактивных источников излучения и для исследования толстых, плотных образцов с помощью источников рентгеновского или гамма-излучения с высоким напряжением в кВ.
Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. Хотя пленку IX100 обычно используют вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами, она пригодна для работы с флуоресцентными или флуорометаллическими экранами.

FUJI IX-80

FUJI IX 80 обладает исключительно мелким зерном и высокой контрастностью.

Пленка ASTM класса Ι с исключительно мелким зерном и высокой контрастностью подходит для обнаружения мелких дефектов. Она пригодна для исследования материалов с низким атомным числом с помощью источников рентгеновского излучения низкого напряжения, а также для исследования материалов с более высоким атомным числом с помощью источников рентгеновского или гамма-излучения с высоким напряжением.
Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. IX80 обычно используется с прямым экспонированием или свинцовыми экранами.

FUJI IX-50

FUJI IX 50 обладает исключительно мелким зерном и высокой контрастностью, а также исключительной резкостью и разрешением.

Пленка ASTM класса 1 с исключительно мелким зерном и высокой контрастностью, исключительной резкостью и разрешением.
Подходит для исследования любых материалов с низким атомным числом, где необходимо получить очень детальное изображение. Благодаря исключительно мелкому зерну предназначена для применения с высоковольтными рентгеновскими генераторами или изотопами с высокой активностью.
Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. IX50 обычно используется с прямым экспонированием или свинцовыми экранами.

FUJI IX-25

FUJI IX 25 обладает средней зернистостью и высокой контрастностью.

Специальная пленка Fujifilm соответствующая стандарту ASTM с самым мелким зерном и максимальной резкостью и разрешением.
Подходит для исследования новых материалов, например, углепластиков, керамических изделий и микроэлектронных деталей.
IX25 обычно используется с прямым экспонированием или свинцовыми экранами.
IX25 рекомендуется обрабатывать только автоматически.