Все микроскопы серии EVO в своей конструкции использую передовые технологии TTL и BeamSleeve, что позволяет получать несравнимо лучшее качество изображения в режиме переменного давления (VP).
Есть три модификации микроскопа EVO MA:
EVO MA 10 предпочитает большинство пользователей при анализе материалов. Большой 5 осевой столик, режим низкого вакуума в стандартной комплектации, множество дополнительных аксессуаров и удобное программное обеспечение SmartSEM делает EVO MA 10 прекрасным решением для современного анализа материалов.
EVO MA 15 предпочтителен при решении материаловедческих аналитических задач для исследования более тяжелых и крупных образцов. Прикладные области – геология, судебная экспертиза и анализ дефектов.
EVO MA 25 является предпочтительным для тех пользователей, которые исследуют очень крупные и тяжелые образцы. EVO MA 25 имеет более высокую камеру, которая в состоянии вместить в себя образцы больше чем 200 мм высотой. Прикладные области – судебная экспертиза, музейные экспонаты, производство автомобилей, космос, ЖК экраны и печатные платы.
Технология
Технология BeamSleeve® уменьшает поток газа через линзу (TTL), чтобы гарантировать максимальную изоляцию электронной колонны от газа компенсации заряда в камере микроскопа.
Beam Gas Path Length (BGPL) – расстояние, по которому взаимодействуют электронный луч и газ камеры. BeamSleeve® минимизирует этот путь для достижения наилучшего качества изображения и рентгенодисперсионного микроанализа. Все микроскопы серии EVO® могут работать с ультракоротким BGPL в 1 мм.
В сочетании с любым детектором технология EVO® BeamSleeve® обеспечивает большую четкость и яркие изображения при низких ускоряющих напряжениях. А в случае использования EDS более точное воспроизведение спектра.
В режиме низкого давления происходит рассеивание электронов вызван столкновением электронов с молекулами воздуха в камере. Рассеянные электроны способствуют второстепенному сигналу EDS и ухудшают отношение сигнал/шум. На изображении спектр линий алюминия, полученного с поперечного сечения слоя краски корпуса автомобиля, с использованием технологии BeamSleeve® (синяя линия) и без BeamSleeve® (красная линия)
Технические характеристики EVO MA
Разрешение |
3 нм (2нм) | @ 30 кВ, SE, W (LaB6) | |
| 4.5 нм | @ 30 кВ, BSD (VP режим) | ||
| 15 нм | @ 30 кВ, 1нА, LaB6 | ||
| 20 нм (15 нм) | @ 1 кВ, SE, W (LaB6) | ||
| 10 нм | @ 3 кВ, SE | ||
Ускоряющее напряжение |
0.2 – 30 кВ | ||
Увеличение |
EVO MA10 и LS10 |
EVO MA15+25 и LS15+25 |
|
| < 7 – 1 000 000x | < 5 – 1 000 000x | ||
Размер поля зрения |
6 мм на аналитическом рабочем отрезке (AWD) | ||
X-ray анализ |
8.5 мм AWD и 35 градусах наклона детектора | ||
Режимы OptiBeam ® |
Разрешение, анализ, глубина резкости, поле, «рыбий глаз» | ||
Диапазон давления |
10 – 400 Па (серия MA) | ||
| 10 – 3000 Па (серия LS) | |||
Доступные детекторы |
BSD – детектор обратнорассеяных электронов | ||
| ETSE – детектор вторичных электронов Эверхарта-Торнли | |||
| VPSE – детектор вторичных электронов для VP режима | |||
| EPSE – детектор вторичных электронов для EP режима | |||
| SCD – измеритель тока через образец | |||
| STEM – детектор проходящих электронов (просвечивающий режим) | |||
| CL –катодолюминесцентный детектор | |||
Камера образца |
EVO MA10 и LS10 |
EVO MA15 и LS15 |
EVO MA25 и LS25 |
| 310мм(Ø) x 220мм(h) | 365мм(Ø) x 275мм(h) | 420мм(Ø) x 330мм(h) | |
5-ти осевой моторизованный столик образца |
EVO MA10 и LS10 |
EVO MA15 и LS15 |
EVO MA25 и LS25 |
| X = 80 мм, Y = 100 мм, | X = 125 мм, Y = 125 мм, | X = 130 мм, Y = 130 мм, | |
| Z = 35 мм, T =-10 ° +90º, | Z = 50 мм, T = -10° + 90º, | Z = 50 мм, T = -10° +90º, | |
| R = 360º (непрерывно) | R = 360º (непрерывно) | R = 360º (непрерывно) | |
| Управление мышью | Управление мышью | Управление мышью | |
| или дополнительным джойстиком и | или дополнительным джойстиком и | или дополнительным джойстиком и | |
| с панели управления | с панели управления | с панели управления | |
Максимальная высота образца |
EVO MA10 и LS10 |
EVO MA15 и LS15 |
EVO MA25 и LS25 |
| 100мм | 145мм | 210мм | |
Возможные модификации |
BeamSleeve®, режим расширенного давления (EP), напуск паров воды в камеру | ||
Размер изображения |
3072 x 2304 точек, режим однократного накопления и непрерывного отображения | ||
Система управления |
SmartSEM® GUI управление мышью и клавиатурой | ||
| Windows® XP мультиязычная операционная система | |||
Дополнительная информация |
Питание: 100 – 240 В, 50 или 60 Гц одна фаза, охлаждение воздушное | ||
